OSK 50OU032　低温壁レトルト炉　最高温度 2400 ℃

＜説明＞

• コンパクトタイプの本シリーズは、黒鉛、モリブデン、タングステンまたは MoSi2 を加熱装置として採用した電気加熱式チャンバー炉です。多様な加熱構想の他にも、レトルト炉はアクセサリーも包括的に取り揃えているため、厳しい技術が要求されるプロセスにも適用できます。真空密封型プロセス容器は、不活性/反応ガス雰囲気下での熱処理プロセスを可能にします。炉の仕様によっては最高 10-5 mbar の真空度を確保します。基本型炉は不燃性の保護ガス反応ガス雰囲気下あるいは真空下での運転に適しています。 H2タイプは水素またはその他の可燃性ガスを使用する運転に適しています。このタイプの中核をなすのが認証許可済みの安全装備です。いかなる時も安全運転を確保すると同時に、エラー発生時には相応の非常プログラムが作動します。

＜加熱仕様の選択肢＞

基本的に以下のプロセス要求用のモデルが入手可能です




032A ../..-GR、黒鉛を採用した断熱および加熱

• 不活性/反応ガス雰囲気または真空下のプロセス
• 最高温度 : 1800 または 2200 (2400 °C は追加装備)
• 使用するポンプのタイプに応じて、10-4 mbar 迄の真空度
• 黒鉛断熱




モリブデンまたはタングステン製ヒーターを装備した032A ../..-MO または032A ../..-W

• 不活性/反応ガス雰囲気または高真空下の高純度プロセスに適用
• Tmax は 1200 、1600 または 1800 (表を参照)
• 使用するポンプのタイプに応じて、10-5 mbar 迄の真空度
• モリブデンならびタングステン放射プレートによる断熱




032A ../..-KE、ファイバー断熱および二珪化モリブデン発熱体による加熱

• 不活性/反応ガス雰囲気、大気または真空下のプロセスに適用
• 最高温度 1800
• 使用するポンプのタイプに応じて、10-2 mbar (最高 1300 ) 迄の真空度
• 高純度の酸化アルミニウムファイバーによる断熱

<基本装備>

• 標準型炉室容量は 8 – 500 リットル
• 耐熱性 Oリングでシールされた全面水冷式のステンレス製プロセス容器
• 鋼鉄製プロファイルから成る堅牢なフレームは、ステンレス製カウリングが取り外しできるためメンテナンスが容易
• 032A 8 のケーシングには炉の走行を容易にするローラーを装備
• 順流・逆流を手動で開閉できるコックを備えた水冷配分器、自動流量監視、開放型冷却システム
• 流量や温度の表示および超過温度の安全装置を備えた調整可能な水冷循環システム
• スイッチボードおよび制御器をケーシングに統合
• プログラムを入力し可視化する 7“ インチ タッチパネルを備えたプロセス制御装置H 700。20セグメント構成のプログラムを10種類保存可能
• 手動設定可能な過昇温計 (熱保護等級 2、EN 60519-2 に準拠)
• プロセス機能および真空機能の手動操作
• プロセスガスの (N2 または Ar) の流量を調整可能な手動式ガスパージ
• 手動バルブを装備したバイパスで不活性ガスを炉室内にスピーディに充填・パージ
• 加圧下での炉の運転用オーバーフローバルブ (相対圧 20 mbar) を装備した手動式ガスアウトレット
• ボールコックを装備した一段型ロータリースライドポンプによる予備排気、および最高 5 mbar の低真空熱処理
• マノメーターで圧力監視を可視化
• 操作説明書の枠内における規定どおりの使用

<追加装備>

• モデル032A 40/..-GRより最高温度2400
• ケーシング区分して小型のドア開口部から装入可能なオプション (032A 8)
• セカンドプロセス (N2 または Ar) 用に流量調整可能な手動型ガスパージおよびバイパス
• モリウデン、タングステン、黒鉛またはCFC製のプロセス容器、特に解離

  -プロセスに奨励。ガス注入排出が直接可能なケーシングは炉室に設置され、温度均一性が向上します。 脱バインダーの間、バインダーを含む排ガスは直接内側から排出されます。脱バインダー後のガスパージの入れ替えにより、焼結過程の間にプロセスガス雰囲気が浄化されます。

• 装入物に取り付けた表示付きの熱電対
• 最高温度 2200 用の機種はパイロメーター、Sタイプの熱電対および自動 取り出し装置を備え、低温領域における卓越した制御効果を発揮 (032A40/..-GR 以降)
• ボールコックを装備した二段型ロータリースライドポンプによる予備排気、および中真空熱処理（最高10-2 mbar）
• シャットオフスライドを備えたターボモレキュラーポンプによる予備排気、および高真空熱処理（最高10-5 mbar）。電気圧力センサーおよびプライマリーポンプを含む
• その他の真空ポンプについてはお問い合わせください。
• 閉鎖循環式水冷熱交換器
• プロセス制御装置H 3700 を備えたオート装備

  – 12インチのグラフィックタッチパネル

  – 温度、加熱レート、ガスパージ、真空等の全プロセスデータをタッチパネルで入力

  – プロセス制御画面上でプロセスに関与する全データを可視化

  – 流量調整可能なプロセスガス(N2、アルゴンまたはフォーミングガス)用の自動ガスパージ

  – プロセスガスを容器にパージ・充填するためのプログラム制御式バイパス

  – 炉の安全運転に向けて、漏洩チェックを含め、予備・後続プログラムの自動化

  – 加圧下での炉の運転用ベローズバルブおよびオーバーフロバルブ (相対圧 20 mbar) を装備した自動ガス排気

  – 絶対圧および相対圧用の圧力センサー

• 流量変更を質量・流量制御する他、セカンドプロセスガスで混合ガスを発生させる装置(オート装備を採用した場合のみ)
• 分圧運転: 負圧制御下での不活性ガス流入 (オート装備を採用した場合のみ)
• NCC による PC 制御によるドキュメンテーション、および運用サイドの PC ネットワークへの結合

<水素やその他の可燃性ガスを使用した運転用の H2 タイプ>

H2仕様は水素およびその他の可燃性ガス下でレトルト炉運転が可能。必要とされる安全技術が炉に追加装備されています。安全に関するセンサーには相応の認証を受けた実証済みの部品だけを採用しています。エラーフリーの制御装置 (S7-300F/安全制御) で炉の運転がコントロールされます。

• 認証許可済みの安全構想
• オート装備 (上記の追加装備を参照)
• 水素流入用冗長バルブ
• 全プロセスのガス圧許容値を監視
• 不活性ガスを炉室内に安全にパージするためのバイパス
• 自動的に開放するソレノイドバルブを備えた圧力監視付き非常パージ容器
• H2アフターバーニング用の排ガスフレア (電気またはガス加熱式)
• 運転雰囲気: 室温以上で過圧 (相対圧 50 mbar) に制御されたプロセス容器で H2を流入

追加装備

• 750 以上の炉温で負圧 (分圧) に制御されたプロセス容器で H2 を流入
• 水素雰囲気下の脱バインダー処理のためにプロセス容器内に収納されたプロセスケーシング

<プロセス容器、不活性ガス下での残留物脱バインダー用>

プロセスによってはチャージの脱バインダーを不燃性保護ガスまたは反応ガス雰囲気下で行う必要があります。このようなプロセスには基本的に高温壁レトルト炉を奨励します。この炉では凝縮物堆積を、最適に回避できることが確認されています。032Aレトルト炉で残留物の脱バインダー中に多少の排ガスが避けられない場合は、炉の装備で対応してください。炉室内に装備された追加プロセス容器で、排気ガスが排ガスフレアに直送されます。このシステムによって、脱バインダー時の排ガスによる炉室内の汚染を極力回避できます。排ガスの構成に応じて、排ガスラインの装備には様々なオプションがあります。

• 排ガスの燃焼のための排ガスフレア
• バインダーを分離するための凝縮トラップ
• 洗浄器によるプロセス別の排ガス処理
• 排気口のヒーティングで排ガスライン内の凝縮物堆積を回避